在電子元器件生產(chǎn)過(guò)程中，超純水設(shè)備關(guān)鍵作為清理用水及用于配置各種各樣水溶液、料漿，不同類型的電子元器件生產(chǎn)制造用水對(duì)的水質(zhì)規(guī)定也不盡相同，所以大多數(shù)公司都選擇性價(jià)比比較高超純水設(shè)備。傳統(tǒng)超純水系統(tǒng)制得工藝采用的是陽(yáng)陰環(huán)氧樹(shù)脂交換設(shè)備，該工藝的缺陷取決于環(huán)氧樹(shù)脂使用一段時(shí)間以后要定期再生。

伴隨著膜分離設(shè)備的持續(xù)完善，反滲透純凈水設(shè)備常選用反滲透工藝，或者選用反滲透之后再通過(guò)EDI及打磨拋光混床工藝來(lái)制得超純水系統(tǒng)，出水導(dǎo)電率之后可以達(dá)到18.2MΩ，滿足電鍍工藝涂裝行業(yè)的用水要求。